佛山真空电镀加工厂货真价实「在线咨询」

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真空电镀工艺主要是通过加热器把膜材蒸发、蒸发的膜材原子或分子迁移吸附到基体表面的成膜工艺，因此根据膜材的种类不同大体可分为金属膜的真空电镀、合金膜的真空电镀及化合物的真空电镀这三大类。

从这一原理图中不难看出，真空电镀工艺过程是由膜材在蒸发源表面上的蒸发、蒸发后的粒子（主要是原子）在气相中的迁移、到达基片表面上通过吸附作用在基片表面上凝结生成薄膜等三个过程所组成。这种工艺过程创造一个良好成膜条件是十分必要的。

另一个典型的例子，就是制备SiO2薄膜，如下图所示，它是在通常的真空蒸镀设备中引入O2。O2的引入方法较多，一般多采用通过泄露阀引入空气的方法。但是需要准确地确定SiO2的组成时，就应当采用从氧气瓶中引入O2或者选用图在坩埚中加入NA2O的粉末进行加热、分解产生的O2碰撞到基片上。这种方法与双蒸源法的不同点，在于活性气体分子与在这种情况下反应生成的气体分子，都能自由在蒸镀空间飞来飞去。从蒸发源出来的分子，就通过这些分子几乎是直接到达基片上。

ＰＶＤ是：中文意思是：物理气相沉积。主要意思是指在真空条件下，在真空状态注入y气，y气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。

ＰＶＤ镀膜技术主要分为：真空离子镀膜，真空溅射镀，真空离子镀膜。我们经常说的ＰＶＤ镀膜就是指真空离子镀膜，近几年来，真空离子镀膜技术发展是z快的，它已经成为当今社会的表面处理方式之一。ＰＶＤ镀出的膜层硬度高，耐磨性强，耐腐蚀性好，化学性稳定，而且膜层寿命长。

以上信息由专业从事真空电镀加工厂的瑞泓科技于2024/4/16 9:00:22发布

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