真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子東轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。
溅射镀膜基本原理：充(Ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(Ar)原子电离成氮离子(Ar)，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在10-2pa~10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。
PVD镀膜技术其功应用，主要是装饰镀膜和工具镀膜。对于帮助企业产品提升产品的耐磨性、耐腐蚀性和保持化学稳定性等特点，可谓功不可没。
1、派瑞林真空镀膜设备有效应用于磁性材料领域，派瑞林的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型或者超小型磁材，几乎都采用派瑞林镀膜工艺作绝缘和防护涂层。
2、派瑞林真空镀膜设备有效应用于印制电路组件和元器件领域，镀膜材料通过派瑞林真空镀膜设备使得活性的对二双游离基小分子气在印制电路组件表面沉积聚合完成。气态的小分子能渗透到包括贴装件下面任何一个细小缝隙的基材上沉积，形成分子量约50万的高纯聚合物。
3、派瑞林真空镀膜设备有效应用于微电子集成电路领域，派瑞林的真空气相沉积工艺不仅和微电子集成电路制作工艺相似，而且所制备的派瑞林涂层介电常数也低，还能用微电子加工工艺进行刻蚀制图，进行再金属化，因此派瑞林（Parylene）不仅可用作防护材料，而且也能作为结构层中的介电材料和掩膜材料使用，经派瑞林（Parylene）涂敷过的集成电路芯片，其25um细直径连接线，连接强度可提高5-10倍。
以上信息由专业从事水表镀膜的菱威纳米于2024/5/8 10:57:48发布
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