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车灯反光灯加工报价点击了解更多 锦城镀膜

来源:锦城镀膜 更新时间:2021-04-15 13:56:54

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响: 

基体温度:镀膜时基体温度直接影响膜层的结构、致密性和附着力,温度可用T/Tm值来确定,如;而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中,带电离子则好比坐上了直升飞机,能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。靶材为钛,其熔点为1670℃,基体温度应该选择TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒组织。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升,基体可选在250-300℃

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真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空蒸镀是将沉积材料与工件同放在真空室中,然后加热沉积材料使之迅速熔化蒸发,当蒸发原子与冷工件表面接触后便在工件表面上凝结形成具有一定厚度的沉积层日。

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电子束蒸发源蒸镀法

将蒸发材料放入水冷铜坩锅中,直接利用电子束加热,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜,是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点,特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。

以上信息由专业从事车灯反光灯加工报价的锦城镀膜于2021/4/15 13:56:54发布

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佛山市锦城镀膜有限公司
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